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학위논문 상세정보

MoSi₂의 저온산화피막 생성거동. 원문보기
Formation behavior of the oxidation film formed on MoSi₂at low temperature.

  • 저자

    이영생

  • 학위수여기관

    창원대학교

  • 학위구분

    국내석사

  • 학과

    材料工學科 材料工學專攻

  • 지도교수

  • 발행년도

    1999

  • 총페이지

    Ⅱ,98p.

  • 키워드

    MoSi₂ 저온산화피막 생성거동;

  • 언어

    kor

  • 원문 URL

    http://www.riss.kr/link?id=T8476531&outLink=K  

  • 초록

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