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E-beam lithography를 이용한 0.1$\mu\textrm{m}$ NMOSFET 제작
The Fabrication of the 0.1$\mu\textrm{m}$ NMOSFET by E-beam Lithography

유상기    (서울대학교 반도체공동연구소   ); 김여환    (서울대학교 반도체공동연구소   ); 전국진    (서울대학교 반도체공동연구소   ); 이종덕    (서울대학교 반도체공동연구소  );
  • 초록

    The NMOSFET with gate length of 0.1 $\mu$ m is fabricated by mix-and-match method. In this device, the electron beam lithography is used to form the gate layer, while other layers are formed by the stepper. The gate oxide is 7nm thick, and the device structure is normal LDD structure. The saturation Gm for gate length of 0.1 $\mu$ m is 246mS/mm. The subthreshold slope is 180mV/decade for 0.1 $\mu$ m gate length, but the slope is 80mV/decade for 0.3 $\mu$ m gate length.


 저자의 다른 논문

  • 전국진 (30)

    1. 1992 "Lithography 기술 현황 및 향후 전망" 電子工學會誌 = The journal of Korea Institute of Electronics Engineers 19 (5): 35~46    
    2. 1994 "유속 감지를 위한 실리콘 유량센서의 설계 및 제작" 電子工學會論文誌. Jounnal of the Korea institute of telematics and electronics. A. A a31 (5): 113~120    
    3. 1994 "삼층감광막구조를 이용한 미세패턴의 전자빔 묘화" 電子工學會論文誌. Jounnal of the Korea institute of telematics and electronics. A. A a31 (10): 101~107    
    4. 1996 "전자빔 리토그라피에서 스트링모델을 이용한 3차원 리지스트 프로파일 시뮬레이션" 電子工學會論文誌. Jounnal of the Korea institute of telematics and electronics. A. A a33 (6): 144~150    
    5. 1996 "리소그라피 모의실험을 위한 전자빔용 감광막의 현상 변수 측정과 프로파일 분석" 電子工學會論文誌. Jounnal of the Korea institute of telematics and electronics. A. A a33 (7): 198~204    
    6. 1997 "짧은 채널 효과의 억제를 위한 ISRC (Inverted-Sidewall Recessed-Channel)구조를 갖는 0.1$\mu\textrm{m}$ nMOSFET의 특성" 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D d34 (8): 35~40    
    7. 1998 "결정립 식각 기술을 이용한 다결정 실리콘 부착 방지 구조" 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D d35 (2): 60~69    
    8. 1998 "마이크로 전자빔 시스템을 위한 전자광학렌즈의 제작에 의한 나노 패턴 형성" 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D d35 (9): 42~47    
    9. 1998 "혼합 마이크로머시닝기술을 이용한 다층전극구조의 정전렌즈 제작" 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D d35 (9): 48~53    
    10. 1998 "MEMS용 다결정실리콘 마이크로머시닝" 제어·자동화·시스템공학회지 = ICASE magazine 4 (5): 16~25    
  • 이종덕 (27)

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