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DFB 레이저 다이오드를 위한 홀로그래픽 시스템을 이용한 회절격자 제작
Grating fabrication for DFB laser diode using holographic interferometer system

강명구    (충북대학교 전자통신과   ); 오환술    (건국대학교 전자공학과  );
  • 초록

    Periodic gratings for 1.55 $\mu$ m distributed feedback laser diode (DFB LD) have been fabricated by a holographic interference exposure system using an etalon stabilized Ar ion laser. We obtain a good development condition at developer concentration of 65% and obtain etching rate of 1000 $\AA$ /min at 20.deg. C by the mixed solution HBr:HNO $_{3}$ :H $_{2}$ O(1:1:10 in volume ratio). We obtain good first order grating with period of 2400 ${\AA}[\pm}2{\AA}$ at etching time of 45 sec from grating period and diffraction efficiency measurement, and SEM observation of grating fabricated on InP substrate.


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