본문 바로가기
HOME> 논문 > 논문 검색상세

논문 상세정보

엑시머 레이저를 이용하여 결정화한 PECVD 및 LPCVD 비정질 실리콘 박막의 특성 분석
Characterization of PECVD and LPCVD a-Si films crystallized by excimer laser

최홍석    (서울대학교 전기공학과   ); 이성규    (현대전자   ); 장근호    (현대전자   ); 전명철    (LG전자   ); 한민구    (서울대학교 전기공학과  );
  • 초록

    We have characterized XeCl excimer-laser-induced crystallization of thin amorphous silicon films deposited by PECVD ( ${\alpha}$ -Si:H) and LPCVD ( ${\alpha}$ -Si). The electrical properties, surface roughness and crystallinity of crystallized thin films have been measured. The dc conductivities, crystallinity andsurface roughness of the films increased as the laser energy density and shot density were increased. The properties of laser annealed films deposited by LPCVD were better than those of thin films deposite by PECVD. We have also found that the multiple shots with relative low energy density were more benifical to the improsvement of surface roughness than the single shot with high energy density preserving the crystallinity.


  • 주제어

    XeCl 엑시머 레이저 .   전도도 .   결정화도 .   표면 거칠기 .   PECVD .   LPCVD .   XeCl excimer laser .   a Si:H .   a-Si .   conductivity .   crystallinity .   surface roughness.  

 저자의 다른 논문

  • 최홍석 (2)

    1. 1997 "엑시머 레이저를 이용하여 동시에 형성된 실리콘 산화막과 다결정 실리콘 박막" 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D d34 (1): 35~40    
    2. 1998 "이중 활성층(a-Si/a-SiNx)의 XeCl 엑시머 레이저 어닐링 효과" 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D d35 (6): 46~53    
  • 한민구 (45)

 활용도 분석

  • 상세보기

    amChart 영역
  • 원문보기

    amChart 영역

원문보기

무료다운로드
  • NDSL :
유료다운로드

유료 다운로드의 경우 해당 사이트의 정책에 따라 신규 회원가입, 로그인, 유료 구매 등이 필요할 수 있습니다. 해당 사이트에서 발생하는 귀하의 모든 정보활동은 NDSL의 서비스 정책과 무관합니다.

원문복사신청을 하시면, 일부 해외 인쇄학술지의 경우 외국학술지지원센터(FRIC)에서
무료 원문복사 서비스를 제공합니다.

NDSL에서는 해당 원문을 복사서비스하고 있습니다. 위의 원문복사신청 또는 장바구니 담기를 통하여 원문복사서비스 이용이 가능합니다.

이 논문과 함께 이용한 콘텐츠
이 논문과 함께 출판된 논문 + 더보기