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반도체 기억소자용 강유전체 박막의 연구 동향

이성갑    (서남대 공대 전자.전기공학과   ); 이영희    (광운대 공대 전자재료공학과  );
  • 초록

    이 논문에서는 최근 반도체 집적 기억소자의 소형화 및 기억 용량 증대를 위해 많은 연구가 진행되고 있는 강유전체 재료의 특성과 기억소자로의 응용시 동작원리 및 문제점, 향후전망등에 대해 서술하고자 한다.


  • 이 논문을 인용한 문헌 (1)

    1. Shim, Kyung-Suk ; Lee, Sang-Ryeol 1999. "Fabrication and Characterization of$(Pb_{0.72}La_{0.28})Ti_{0.93}O_3$ Thin Films by Pulsed Laser Deposition" 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문, 48(5): 303~308     

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