본문 바로가기
HOME> 논문 > 논문 검색상세

논문 상세정보

고밀도 플라즈마에서 규소산화막을 마스크로 이용한 백금박막의 페터닝
Patterning of Pt thin films using SiO$_2$mask in a high density plasma

이희섭    (인하대학교 반도체 및 박막기술연구소   ); 이종근    (인하대학교 반도체 및 박막기술연구소   ); 박세근    (인하대학교 반도체 및 박막기술연구소   ); 정양희    (여수 수산대학 전기공학과  );
  • 초록

    Inductively coupled Cl $_{2}$ plasma has been studied to etch Pt thin films, which hardly form volatile compound with any reactive gas at normal process temperature. Low etch rate and residue problems are frequently observed. For higher etch rate, high density plasma and higher process temperature is adopted observed. For higher etch rate, high density plasma and higher process temperature is adopted and thus SiO $_{2}$ is used as for patterning mask instead of photoresist. The effect of O $_{2}$ or Ar addition to Cl $_{2}$ was investigated, and the chamber pressure, gas flow rate, surce RF power and bias RF power are also varied to check their effects on etch rate and selectivity. The major etching mechanism is the physical sputtering, but the ion assisted chemical raction is also found to be a big factor. The proposs can be optimized to obtain the etch rate of Pt up to 200nm/min and selectivity to SiO $_{2}$ at 2.0 or more. Patterning of submicron Pt lines are successfully demonstrated.


  • 이 논문을 인용한 문헌 (1)

    1. Lee, Jong-Geun ; Park, Se-Geun 2000. "Dry Etching of Pt/RuO$_{2}$ for Pb(Zr,Ti)O$_{3}$ by High Density Plasma" 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체, 37(3): 1~5     

 저자의 다른 논문

  • 박세근 (30)

    1. 1992 "통계적 실험계획법을 이용한 SOG 평탄화 공정의 최적화" 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society 1 (1): 198~205    
    2. 1996 "감광제 건식제거공정의 최적화" 電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 9 (9): 918~924    
    3. 1998 "고분자 분상형 액정표시소자의 전기광학적 특성 연구" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 11 (10): 885~890    
    4. 1998 "고온 다결정 실리콘 박막트랜지스터의 전기적 특성과 누설전류 특성" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 11 (10): 918~923    
    5. 1998 "고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 11 (2): 95~100    
    6. 2000 "고밀도 플라즈마를 이용한 PZT용 Pt/RuO$_{2}$ 이중박막의 식각" 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 37 (3): 1~5    
    7. 2000 "자화 플라즈마의 분산특성과 유효광학계수 변화" 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society 9 (3): 285~289    
    8. 2002 "Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 15 (3): 227~232    
    9. 2002 "Large Area Plasma for LCD Processing by Individyally Controlled Array Sources" Journal of information display 3 (2): 26~30    
    10. 2004 "장파장 VCSEL을 이용한 Gigabit-capable WDM-PON" 한국통신학회논문지. The journal of Korea Information and Communications Society. 무선통신 29 (a2): 119~127    

 활용도 분석

  • 상세보기

    amChart 영역
  • 원문보기

    amChart 영역

원문보기

무료다운로드
  • NDSL :
유료다운로드

유료 다운로드의 경우 해당 사이트의 정책에 따라 신규 회원가입, 로그인, 유료 구매 등이 필요할 수 있습니다. 해당 사이트에서 발생하는 귀하의 모든 정보활동은 NDSL의 서비스 정책과 무관합니다.

원문복사신청을 하시면, 일부 해외 인쇄학술지의 경우 외국학술지지원센터(FRIC)에서
무료 원문복사 서비스를 제공합니다.

NDSL에서는 해당 원문을 복사서비스하고 있습니다. 위의 원문복사신청 또는 장바구니 담기를 통하여 원문복사서비스 이용이 가능합니다.

이 논문과 함께 출판된 논문 + 더보기