본문 바로가기
HOME> 논문 > 논문 검색상세

논문 상세정보

광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계
Reverse design of photomask for optimum fiedelity in optical lithography

이재철    (원광대학교 반도체학과   ); 오명호    (원광대학교 반도체학과   ); 임성우    (원광대학교 물리학과  );
  • 초록

    The optical lithography wit an ArF excimer laser as a light source is expected to be used in the mass production of giga-bit DRAMs which require less than 0.2.mu.m minimum feature size. In this case, the distortion of a patterned image becomes very severe, since the lithography porcess is performed at the resolution limit. Traditionally, the photomask pattern was designed and revised with trial-and-error methods, such as repeated execution of process simulators or actual process experiments which require time and effort. Ths paper describes a program which automatically finds an optimal mask pattern. The program divides the mask plane into cells with same sizes, chooses a cell randomly, changes the transparent/opaque property of the cell, and eventually genrates a mask pattern which produces required image pattern. The program was applied to real DRAM cell patterns to produce mask patterns which genertes image patterns closer to object images than original mask patterns.


 저자의 다른 논문

  • 이재철 (8)

    1. 1998 "몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정" 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D d35 (10): 76~82    
    2. 2000 "Attenuated Phase Shift Mask에 광 근접 효과 보정을 적용한 고립 패턴의 해상 한계 분석" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 13 (11): 901~907    
    3. 2001 "0.12$\mu\textrm{m}$설계규칙을 갖는 DRAM 셀 주용 레이어의 OPC 및 PSM" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 14 (1): 6~11    
    4. 2003 "컴퓨터로 설계한 홀로그램 광 저대역 필터의 특성 분석" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 16 (12): 1261~1267    
    5. 2004 "마스크 뒷면에 2 위상 회절 격자를 구현한 변형 조명 방법" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 17 (7): 697~700    
    6. 2004 "고리형 위상 격자의 공간 주파수 필터 효과" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 17 (9): 994~1000    
    7. 2005 "마스크 뒷면에 동심원 격자를 사용한 변형조명 방법" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 18 (3): 212~215    
    8. 2005 "큰 회절각을 가진 CGH의 위치에 대한 오차의 보정" 한국광학회지 = Korean journal of optics and photonics 16 (2): 128~132    
  • 임성우 (10)

 활용도 분석

  • 상세보기

    amChart 영역
  • 원문보기

    amChart 영역

원문보기

무료다운로드
  • NDSL :
유료다운로드

유료 다운로드의 경우 해당 사이트의 정책에 따라 신규 회원가입, 로그인, 유료 구매 등이 필요할 수 있습니다. 해당 사이트에서 발생하는 귀하의 모든 정보활동은 NDSL의 서비스 정책과 무관합니다.

원문복사신청을 하시면, 일부 해외 인쇄학술지의 경우 외국학술지지원센터(FRIC)에서
무료 원문복사 서비스를 제공합니다.

NDSL에서는 해당 원문을 복사서비스하고 있습니다. 위의 원문복사신청 또는 장바구니 담기를 통하여 원문복사서비스 이용이 가능합니다.

이 논문과 함께 출판된 논문 + 더보기