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비정질 $(Ba, Sr)TiO_3$층의 도입을 통한 $(Ba, Sr)TiO_3$박막의 특성 향상
The improvement in the properties of $(Ba, Sr)TiO_3$films by the application of amorphous layer

백수현   (한양대학교 재료공학과UU0001519  ); 이공수   (한양대학교 재료공학과UU0001519  ); 마재평   (호남대학교 전자공학과UU0015948  ); 박치선   (한서대학교 전자공학과UU0001506  );
  • 초록

    $RuO_2$ 하부전극 상에 형성된 $(Ba, Sr)TiO_3$ [BST] 박막의 물성을 향상시키기 위하여 비정질 BST층(30, 70nm)을 $RuO_2$ 와 BST사이에 증착하여 2중 BST구조를 형성시켰다. 비정질 BST층의 도입을 통해, BST박막의 평균 입도가 증가하고, 표면 거칠기가 감소하여 전체 BST 박막의 미세구조와 표면 mophology가 단일 BST박막에 비해 상당한 변화가 발생함을 확인하였다. 30nm의 비정질측이 적용된 BST박막의 경우, 하부기판의 영향으로부터 비교적 자유로운 미세구조를 갖는 BST 박막이 형성되었다. 2중 BST 박막의 경우 유전상수는 340, 누설전류는 $6.85{\times}10^{-7}A/{\textrm}{cm}^2$ 로서 비정질층을 갖지 않는 단일 BST 박막에 비하여(유전상수: 152, 누설전류: $1.25{\times}10^{-5}A/{\textrm}{cm}^2$ )놀라운 전기적 특성의 향상이 이루어짐을 확인하였다.


    Amorphous (Ba, Sr) $TiO_3$ [BST] layer(30, 70 nm) was introduced between crystalline BST and $RuO_2$ electrode to realize double-layered BST structure in order to improve the properties of BST film. The structure and surface morphology of double-layered BST film were modified by the application of amorphous BST layer; that is, surface became smoother and grain size increased abruptly. Amorphous layer thicker than 30 nm was effective to hinder the influence of $RuO_2$ surface on the structure of as-grown BST films by in-situ process. Dielectric constant of double-layered BST film was improved dramatically from 152 to 340 and leakage current was lowered from $1.25{\times}10^{-5}A/{\textrm}{cm}^2);to;6.85{\times}10^{-7}A/{\textrm}{cm}^2$ , respectively.


  • 참고문헌 (11)

    1. T. Kawahara;M. Yamamuka;T. Makita;J. Naka;A. Yuuki;N. Mikami;K. Ono , Jpn. J. Appl. Phys. / v.33,pp.5129,
    2. Q.X. Jia;A.T. Findikoglu;R. Zhou;S.R. Foltyn;X.D. Wu , Proc. 8th Intr. Symp. Integrated Ferroelectrics / v.14,pp.167,
    3. W. Pan;S.B. Desu , J. Vac. Sci. Technol. / v.B12,pp.3208,
    4. T.S. Chen;V. Balu;B. Jiang;S. Kuah;J.C. Lee;P. Chu;R.E. Jones;P. Zurcher;D.J. Taylor;S. Gillespie , Proc. 8th. Intr. Symp. Integrated Ferroelectrics / v.16,pp.191,
    5. L. Jursin-Elbaum;M. Wittmer , J. Electrochem. Soc. / v.135,pp.2610,
    6. S.C. Sun;M.S. Tsai , 1997 International Electron Devices Meeting / v.,pp.253,
    7. D.K. Choi;J.Y. Choi;J.H. Won;S.H. Paek , Mat. Res. Soc. Symp. Proc. / v.433,pp.45,
    8. M. Izuha;K. Abe;N. Fukushima , Jpn. J. Appl. Phys. / v.36,pp.5866,
    9. D.H. Kwak;B.T. Jang;S.Y. Cha;S.H. Lee;H.C. Lee;B.G. Yu , Proc. 8th Intr. Symp. Integrated Ferroelectrics / v.13,pp.121,
    10. S.H. Paek;J.W. Won;K.S. Lee;J.S. Choi;C.S. Park , Jpn. J. Appl. Phys. / v.35,pp.5757,
    11. H.N. Al-Shareef;K.D. Gifford;P.D. Hren;S.H. Rou;O. Auciello;A.I. Kingon , Proc. 4th Intr. Symp. Integrated Ferroelectrics / v.,pp.187,

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    1. 1984 "Al-MIS(p-Si) 태양전지의 AR Coating 방법" 電子工學會誌 = Journal of the Korean Institute of Electronics Engineers 21 (6): 64~69    
    2. 1985 "증착조건에 따른 금속박막의 광투과율" 電子工學會誌 = Journal of the Korean Institute of Electronics Engineers 22 (6): 7~12    
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