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Mumetal 박막의 성장온도가 유도자기이방성에 미치는 영향
Effect of the Growing Temperature on the Induced Anisotropy of Mumetal Thin Film

이영우   (충남대학교 재료공학과UU0001302  ); 김철기   (충남대학교 재료공학과UU0001302  ); 김종오   (충남대학교 재료공학과UU0001302  );
  • 초록

    110 $\AA$ 두께의 Mumetal 박막을 자기장하에서 기판온도를 변화시키면서 제작하고, 고진공 분위기에서 자기장중 열처리를 수행하였다. 박막에 유도되는 자기이방성은 인가자기장 방향에서 30 $^{\circ}$ 간격으로 180 $^{\circ}$ 까지 자기이력곡선을 측정하여 조사하였다. 기판 온도가 증가할수록 용이축 방향의 보자력은 감소하였으나 일축이방성은 인가자기장 방향에서 벗어났다. 20 $0^{\circ}C$ 에서 한 시간 동안 자기장중 열처리를 수행하면 기판온도에 상관없이 일축이방성이 향상되었다. 기판온도가 5 $0^{\circ}C$ 이하일때 4.3 Oe의 이방성 자기장을 나타냈으며 기판온도가 증가할수록 이방성 자기장은 감소하였다. Mumetal 박막의 일축이방성은 열처리 전후 모두 5 $0^{\circ}C$ 에서 가장 잘 유도되었다.


    Soft magnetic Mumetal thin film was fabricated under magnetic field at various substrate temperatures. High vacuum annealing was carried out at 200 $\^{C}$ during 1 hr. The in-plane anisotropy of Mumetal thin film was determined from hysteresis loops measured by VSM when the sample axis varied from the field direction from 0°to 180°. As the substrate temperature increases, the coercivity in easy direction decreases, but uniaxial anisotropy deviates from the field direction. After vacuum annealing at 200 $\^{C}$ for 1 hr, the uniaxial anisotropy is improved irrespective of substrate temperature. When the substrate temperature was 50 $\^{C}$ , the anisotropy field is 4.3 Oe. As the substrate temperature increases anisotropy field decreases. Uniaxial anisotropy of Mumetal thin film was formed best at 50 $\^{C}$ before and after annealing.


  • 주제어

    유도자기 이방성 .   기판 온도 .   열처리.  

  • 참고문헌 (9)

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  • 김종오 (64)

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