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플라즈마 식각을 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터
Superconducting Flux flow Transistor using Plasma Etching

강형곤   (전북대학교 반도체물성연구소UU0001120  ); 고석철   (전북대 전기공학과  ); 최명호   (광주보건대학 의료정보공학과UU0000206  ); 한윤봉   (전북대 화학공학부  ); 한병성   (전북대 전기공학과  );
  • 초록

    The channel of a superconducting flux flow transistor has been fabricated with plasma etching method using a inductively coupled plasma etching. The ICP conditions then were ICP Power of 450 W, rf chuck power of 150 W, the pressure in chamber of 5 mTorr, and Ar : Cl $_2$ =1:1 1:1. Especially, over the 5 mTorr, the superconducting thin films were not etched. The channel etched by plasma gas showed the critical temperature over 85 K. The critical current of the SFFT was altered by varying the external applied current. As the external applied current increased from 0 to 12 mA, the critical current decreased from 28 to 22 mA. Then the obtained trans-resistance value was smaller than 0.1 $\Omega$ at a bias current of 40 mA.


  • 주제어

    Superconducting Flux Flow Transistor .   Inductively coupled plasma .   Channel .   Trans-resistance.  

  • 참고문헌 (11)

    1. Metal-insulator-superconductor field-effect-transistor using $SrTiO_{3}/YBa_{2}Cu_{3}O_{3y}$ hetero-epitaxial films , T.Fujii;K.Sakuta;T.Awaji;K.Matsui;T.Hirano;Y.Ogawa;T.Kobayashi , Jpn. J. Appl. Phys. / v.31,pp.L612,
    2. Inductively Coupled Plasma에 의한 fluorocarbon 가스 플라즈마의 실리카 표면반응 연구 , 박상호;신장욱;정명영;최태구;권광호 , 전기전자재료학회논문지 / v.11,pp.472,
         
    3. Ag와 $Y_{2}BaCuO_{5}$ 가 고온초전도체의 임계특성에 미치는 영향 , 임성훈;강형곤;이현수;한병성 , 전기전자재료학회논문지 / v.11,pp.493,
         
    4. 새로운 ICP 장치를 이용 한 고온 초전도체의 dry etching과 기존의 wet etching 기술과의 비교 , 강형곤;임성훈;임연호;한윤본;황종선;한병성 , 전기전자재료학회논문지 / v.14,pp.158,
         
    5. Transresistance and current gain of high-$T_{c}$ flux flow transistors , K.Miyahara;S.Kubo;M.Suzuki , J. Appl. Phys. / v.76,pp.4772,
    6. Theoretical study of electric field ffects in high-$T_{C}$ oxide superconductor using an ultrathin - metal - insulator superlattice model , S.Sakai , Physical Review B / v.47,pp.9042,
    7. Characteristics of high-To superconducting flux flow transistors with submicron channels , K.Miyahara;K.Tsuru;S.Kubo;M.Suzuki , IEEE Trans. Appl Supercon. / v.5,pp.3381,
    8. S parameter measurements and microwave applications of superonducting flux flow transisistors , J.S.Martens;V.M.Hietala;T.E.Zipperian;D.S.Ginley;C.P.Tigges;J.M.Phillips , IEEE Trans. Microwave Theory Tech. / v.39,pp.2018,
    9. High density Plasma etching of YBaCuO superconductors , Y.H.Im;H.G.Kang;B.S.Han;Y.B.Hahn , Electrochemical and Solid State Letters / v.4,pp.C77,
    10. Fabrication and characterizatrion of HTS/semiconductor three terminal , Q.Huang;N.Yoshikawa;M.Sugahara , IEEE trans. on Applied Suprcon. / v.3,pp.1957,
    11. A new superconducting-base transistor , D.J.Frank;M.J.Brady;A.Davidson , IEEE trans. on Mag. / v.Mag-21,pp.721,
  • 이 논문을 인용한 문헌 (3)

    1. 2004. "Analysis of the Critical Characteristics in the Superconducting Strip Lines by ICP Etching System" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, 17(7): 782~787     
    2. 2004. "Anodization Process of the YBa2Cu3O7-x Strip Lines by the Conductive Atomic Force Microscope Tip" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, 17(8): 875~881     
    3. 2008. "" Transactions on electrical and electronic materials, 9(6): 260~264     

 저자의 다른 논문

  • 강형곤 (11)

    1. 1996 "에너지 절약형 자동조명 장치 개발" 電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 9 (10): 1027~1032    
    2. 1997 "4원타깃 RF마그네트론 스퍼터링법을 이용한 Bi계 고온 초전도체 박막의 제작" 電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 10 (9): 869~875    
    3. 1998 "용융성장시 서냉시간과 후열처리시간에 따른 임계특성" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 11 (4): 327~333    
    4. 1999 "EM시험에서의 Joule Heating 영향 및 초기저항값" 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 48 (6): 436~441    
    5. 2001 "$CeO_2$첨가와 도포물질의 입자크기가 화산공정을 이용한 고온초전도 후막의 특성에 미치는 영향" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 14 (2): 152~157    
    6. 2001 "새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching과 기존의 Wet Etching 기술과의 비교" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 14 (2): 158~162    
    7. 2001 "나선형태로 제작된 고온초전도 한류기의 특성해석" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 14 (6): 518~524    
    8. 2002 "The Study on Current Limiting Characteristic Analysis of Magnetic Shielding Type Fault Current Limiter" Progress in superconductivity 3 (2): 235~240    
    9. 2004 "ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 17 (7): 782~787    
    10. 2004 "전도성 AFM 탐침에 의한 YBa2Cu3O7-x 스트립 라인의 산화피막 형성" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 17 (8): 875~881    
  • 최명호 (4)

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