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Effects of Panel Temperature on the Discharge Characteristics of Micro Discharge Cells

Shim, Kyung-Ryeol   (Department of Electrical Engineering, Pusan National UniversityUU0000613  ); Park, Chung-Hoo   (Department of Electrical Engineering, Pusan National UniversityUU0000613  ); Lee, Ho-Jun   (Department of Electrical Engineering, Pusan National UniversityUU0000613  );
  • 초록

    The effects of ambient temperature on the discharge characteristics of Ne-Xe based micro discharge cells for ac-PDP (plasma display panel) have been studied. In ramp voltage driving, which is generally used as a reset method of PDP, two dissimilar modes of strong and weak discharge were found. As the interval between the former sustaining discharge and ramp voltage discharge becomes greater, the probability of a strong discharge increases. This suggests that a sufficient number of priming particles is necessary for initiating weak mode (Townsend discharge). It was discovered that under higher ambient temperatures, weak discharge occurs more frequently. The discharge time lag observed in square pulse driving of single cells becomes surprisingly smaller under higher ambient temperatures for the constant gas number density condition.


  • 주제어

    discharge mode probability .   panel temperature .   PDP .   time lag.  

  • 참고문헌 (8)

    1. Chung-Hoo park, Sung-Hyun Lee, Dong-Hyun Kim, Woo-Geun Lee and Jeong-Eun Heo, 'A study on the new type sustaining electrode showing high luminous efficiency in AC PDPs', IEEE Trans. on Electron Device vol 48, NO 10. pp2260-2264, 2001 
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    3. S. Yoshikawa et al, 'Full-color AC plasma display with 256 gray scale', Japan Display, pp605-608, 1992 
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    5. Deba Behadur Khadka, Yuji Fukunchi, Masashi Kitajima, Koji Hidaka, Noriyuki Kouchi, Yoshihiko Hatano Masatoshi Ukai, 'Deexcitation of Ne(3P1) and Ne(3P2) in collisions with Ar, Kr and Xe', J.Chem. Phys. 107(7) pp2386-2394, 1997 
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    1. 1988 "마이카/에폭시 복합재료의 개발에 관한 연구(3)" 電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 1 (2): 115~125    
    2. 1991 "반응성 마그네트론 스파트링 프로세스의 제작 및 AI계 박막형성에 관한 연구" 電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 4 (3): 239~248    
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