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Journal of electrical engineering & technology v.2 no.4, 2007년, pp.525 - 531  
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Fabrication and Characterization of Ni-Cr Alloy Thin Films for Application to Precision Thin Film Resistors

Lee, Boong-Joo    (Department of Electronic Engineering, Namseoul University   ); Shin, Paik-Kyun    (School of Electrical Engineering, Inha University  );
  • 초록

    Ni(75 wt.%)-Cr(20 wt.%)-Al(3 wt.%)-Mn(4 wt.%)-Si(1 wt.%) alloy thin films were prepared using the DC magnetron sputtering process by varying the sputtering conditions such as power, pressure, substrate temperature, and post-deposition annealing temperature in order to fabricate a precision thin film resistor. For all the thin film resistors, sheet resistance, temperature coefficient of resistance (TCR), and crystallinity were analyzed and the effects of sputtering conditions on their properties were also investigated. The oxygen content and TCR of Ni-Cr-Al-Mn-Si resistors were decreased by increasing the sputtering pressure. Their sheet resistance, TCR, and crystallinity were enhanced by elevating the substrate temperature. In addition, the annealing of the resistor thin films in air at a temperature higher than $300^{\circ}C$ lead to a remarkable rise in their sheet resistance and TCR. This may be attributed to the improved formation of NiO layer on the surface of the resistor thin film at an elevated temperature.


  • 주제어

    DC magnetron sputtering .   Ni-Cr alloy thin films .   TCR .   Thin film resistor.  

  • 참고문헌 (9)

    1. Neelkanth G. Dhere et.al, 'Composition and temperature coefficient of resistance of Ni-Cr thin films', Thin Solid Films, vol. 59, no. 1, pp. 33-41, April (1979) 
    2. M.A. Bayne, 'Al-doped Ni-Cr for temperature coefficient of resistance control in hybrid thin-film resistors', J. Vac. Sci. Technol., vol. A4, no. 6, pp. 3142-3145, November (1986) 
    3. J.H. Mooij et. al., 'Structural and electrical properties of sputtered CrNi films', J. Vac. Sci. Technol., vol. 9, no. 1, pp. 446-449, January (1972) 
    4. A. Belu-Marian et.al., 'Electrical properties and structural defects of Ni-Cr thin films', Thin Solid Films, vol. 139, no. 1, pp. 15-24, May (1986) 
    5. M.I. Birjega et.al., 'Crystallization of amor-phous sputtered 55%Cr-45%Ni thin films', Thin Solid Films, vol. 92, no. 4, pp. 315-322, June (1982) 
    6. D. M. Buczek, 'Thin-film NiCr resistor', J.Vac. Sci. Technol., vol. 15, no. 2, pp. 370-372, March (1978) 
    7. M. Koltai et. al., 'Segregation phenomena in thin film NiCr layers', Vacuum, vol. 33, no. 1-2, pp. 49-52, January-February (1983) 
    8. W. Pitschke et. al., 'Phase formation process of sputtered NiCr(37:63) thin films', Fresenius J. Anal. Chem., vol. 361, no. 6-7, pp. 608-609, August (1998) 
    9. Young-Wook Choi and Jeehyun Kim, 'Sputtering technique of magnesium oxide thin film for plasma display panel applications', Journal of Electrical Engineering & Technology, vol. 1, no. 1, pp. 110-113, March (2006)     

 저자의 다른 논문

  • 이붕주 (32)

    1. 2008 "Ni-Cr계 합금을 이용한 박막저항의 제작 및 신뢰성" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 21 (1): 57~62    
    2. 2008 "XPS Investigation and Field Emission Property of the Ar Plasma Processed Carbon Nanotube Films" Transactions on electrical and electronic materials 9 (2): 52~56    
    3. 2008 "분리형 펄스 레이져 증착법을 이용한 ZnO 박막의 특성에 관한 연구" 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers 21 (9): 818~824    
    4. 2008 "펄스 레이저 증착법을 이용한 유기 박막의 제작" 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society 17 (5): 455~460    
    5. 2010 "TCP-CVD법을 활용한 공정변수에 따른 산화막의 제작" 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society 19 (2): 148~154    
    6. 2010 "CVD로 제작된 SiO2 산화막의 투습특성" 한국전자통신학회 논문지 = The Journal of the Korea Institute of Electronic Communication Sciences 5 (1): 81~87    
    7. 2010 "반응성 스퍼터링으로 제작된 SixOy-SixNy 적층구조의 반사방지 코팅 응용" 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society 19 (5): 341~346    
    8. 2011 "반도체 뉴메모리의 동향 및 전망" 전기의 세계 = The proceedings of KIEE 60 (1): 34~39    
    9. 2011 "고분자 습도센서의 내수성 결함 원인분석에 대한 연구" 한국전자통신학회 논문지 = The Journal of the Korea Institute of Electronic Communication Sciences 6 (1): 43~48    
    10. 2011 "공정압력 및 기판바이어스 인가유무에 따른 PMMA 플라즈마중합박막의 전기적 특성" 한국전자통신학회 논문지 = The Journal of the Korea Institute of Electronic Communication Sciences 6 (5): 697~702    
  • Shin, Paik-Kyun (28)

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