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전자빔 응용 나노 가공기술
Nano-machining Technology Using Electron Beam

김재구   (한국기계연구원 나노기계연구본부CC0007559  ); 이재종   (한국기계연구원 나노기계연구본부CC0007559  ); 조성학   (한국기계연구원 나노기계연구본부CC0007559  ); 최두선   (한국기계연구원 나노기계연구본부CC0007559  ); 이응숙   (한국기계연구원 나노기계연구본부CC0007559  );
  • 초록

    초록이 없습니다.


  • 주제어

    전자빔 리소그래피 .   나노 패터닝 .   3차원 나노가공 .   공정조건.  

  • 참고문헌 (13)

    1. Wang, X., Hu, W., Ramasubramaniam, R., Bernstein, G. H., Snider, G. and Lieberman, M., "Formation, Characterization, and Sub-50-nm Patterning of Organosilane Monolayers with Embedded Disulfide Bonds: An Engineered Self-Assembled Monolayer Resist for Electron-Beam Lithography," Langmuir, Vol. 19, pp. 9748-9758, 2003 
    2. Boyd, E. J. and Blaikie, R. J., "Three dimensional HSQ structures formed using multiple low energy electron beam lithography," Microelectronic Engineering, Vol. 83, pp. 767-770, 2006 
    3. Spallas, J. P., Silver, C. S., Muray, L. P., Wells, T. and El-Gomati, M., "A manufacturable miniature electron beam column," Microelectronic Engineering, Vol. 83, pp. 984-989, 2006 
    4. 김기범, 이호신, "전자빔을 이용한 나노 패터닝 기술," 기술동향분석 보고서, KISTI, 2003 
    5. Kim, S. T., Yang D. S., Park, H. W. and Kim, T. H., "Technology of semiconductor industry and development of photoresist," Polymer Science and Technology, Vol. 16, No. 1, 2005 
    6. Ishii, Y. and Taniguchi, J., "Fabrication of three-dimensional nanoimprint mold using inorganic resist in low accelerating voltage electron beam lithography," Microelectronic engineering, Vol. 84, pp. 912-915, 2007 
    7. http://www.mapperlithography.com/ 
    8. Kim, H. S., Kim, Y. C., Kim, D. W., Ahn, S. J., Jang, Y., Kim, H. W., Seong, D. J., Park, K. W., Park, S. S. And Kim, B. J., "Low energy electron beam microcolumn lithography," Microelectronic Engineering, Vol. 83, pp. 962-967, 2006 
    9. Lee, J. J., "Development of key technologies for nanoscale shape fabrication-Research report," KOCI, 2006 
    10. Madou, M. J., "Fundamentals of microfabrication," 2nd Ed., CRC press, pp. 53-57, 2001 
    11. 이재종, 장원석, "나노스케일 3D형상 패터닝 기술," 물리학과 첨단기술, 제13권 10호, pp.14-19, 2004 
    12. Weimann, T., Geyer, W., Hinze, P., Stadler, V., Eck, W. and Golzhouser, A., "Nanoscale patterning of self-assembled monolayers by e-beam lithography," Microelectronic Engineering, Vol. 57-58, pp. 903-907, 2001 
    13. KISTI, "Nanotechnology policy brief," KISTI, No. 4, pp. 1-36, 2007 
  • 이 논문을 인용한 문헌 (2)

    1. Oh, Se-Kyu ; Kim, Dong-Hwan ; Kim, Seung-Jae 2009. "A Study on Pattern Fabrication using Proximity Effect Correction in E-Beam Lithography" 반도체및디스플레이장비학회지 = Journal of the semiconductor & display equipment technology, 8(2): 1~10     
    2. Lee, Seonggyu ; Kwon, Won Tae 2015. "Manufacturing of Three-dimensional Micro Structure Using Proton Beam" 大韓機械學會論文集. Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. B. B, 39(4): 301~307     

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