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韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society v.19 no.2, 2010년, pp.91 - 95   피인용횟수: 2
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자외선 활성화 원자층 성장 기술을 이용한 상온에서 TiO2 박막의 제조
Fabrication of TiO2 Thin Films Using UV-enhanced Atomic Layer Deposition at Room Temperature

이병훈    (한양대학교 화학과   ); 성명모    (한양대학교 화학과  );
  • 초록

    상온에서 고품질의 $TiO_2$ 박막을 제조하기 위하여 titanium isopropoxide [Ti(OCH $(CH_3)_2)_4$ , TIP]와 $H_2O$ 을 이용한 자외선 활성화 원자층 증착(UV-enhanced atomic layer deposition: UV-ALD) 기술을 개발하였다. UV-ALD 기술은 상온에서 자체제어 표면 반응(self-limitting surface reaction)을 통해 균일하고 고품위 등방 특성을 갖는 순수한 $TiO_2$ 박막 증착이 가능하였다. ALD 반응 시 조사되는 자외선은 Si 기질 위에 우수한 접착력을 가지는 고품질의 $TiO_2$ 박막을 얻는데 효과적이었다. UV-ALD 기술은 높은 단차비(aspect ratio)를 가지는 trench 기질 위에 균일한 $TiO_2$ 박막을 증착하는 데에 적용되었다.


    A UV-enhanced atomic layer deposition (UV-ALD) process was developed to deposit $TiO_2$ thin films on Si substrates using titanium isopropoxide(TIP) and $H_2O$ as precursors with UV light. In the UV-ALD process, the surface reactions were found to be self-limiting and complementary enough to yield a uniform, conformal, pure $TiO_2$ thin film on Si substrates at room temperature. The UV light was very effective to obtain the high-quality $TiO_2$ thin films with good adhesive strength on Si substrates. The UV-ALD process was applied to produce uniform and conformal $TiO_2$ coats into deep trenches with high aspect ratio.


  • 주제어

    원자층 증착 .   자외선 .   표면포화반응.  

  • 참고문헌 (20)

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    12. T. Ohishi, S. Maekawa, and A. Katoh, J. Non-Cryst. Solids 147, 493 (1992). 
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    17. H. Fukuda, S. Namioka, M. Miura, Y. Ishikawa, M. Yoshino, and S. Nomura, Jpn. J. Appl. Phys. 38, 6034 (1999). 
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    19. 이두형, 권새롬, 이석관, 노승정, 한국진공학회지 18, 296, (2009).     
    20. B. H. Lee, M. K. Ryu, Sung-Y. Choi, K. H. Lee, S. Im, and M. M. Sung, J. Am. Chem. Soc. 129, 16304 (2007). 
  • 이 논문을 인용한 문헌 (2)

    1. Kim, Young-Dok 2012. "Investigations of Adsorption Behaviors of Various Adsorbents Including Carbon, or TiO2" 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, 21(2): 106~112     
    2. Bang, Ki Su ; Jeong, So Un ; Lim, Jung Wook ; Lee, Seung-Yun 2013. "Selective Transmission Properties of Al-Ti Based Oxide Thin Films" 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, 22(1): 13~19     

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