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자장 여과 아크 이온빔 식각 공정을 이용한 WC-Co 및 SCM415 금속 소재 표면 구조 제어 연구
Surface Modification of WC-Co and SCM415 by the Ion Bombardment Process of Filtered Vacuum Arc Plasma

이승훈    (한국기계연구원 부설 재료연구소   ); 윤성환    (한국기계연구원 부설 재료연구소   ); 김도근    (한국기계연구원 부설 재료연구소   ); 권정대    (한국기계연구원 부설 재료연구소   ); 김종국    (한국기계연구원 부설 재료연구소  );
  • 초록

    The surfaces of WC-Co and SCM415 were etched to form a micro size protrusion for oil based ultra low friction applications using an ion bombardment process in a filtered vacuum arc plasma. WC-Co species showed that a self-patterned surface was available by the ion bombarding process due to the difference of sputtering yield of WC and Co. And the increasing rate of roughness was 0.6 nm/min at -600 V substrate bias voltage. The increasing rate of roughness of SCM415 species was 1.5 nm/min at -800 V, but the selfpatterning effect as shown in WC-Co was not appeared. When the SCM415 species pretreated by electrical discharge machining is etched, the increasing rate of roughness increased from 1.5 nm/min to 40 nm/min at -800 V substrate bias voltage and the uniform surface treatment was available.


  • 주제어

    Ion bombardment .   WC-Co .   SCM415 .   Friction .   Filtered Vacuum arc.  

  • 참고문헌 (12)

    1. M. A. Lieberman, A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharge and Materials Processing, 2nd edition, Wiley-Interscience (2005) 37. 
    2. N. Wain, N. R. Thomas, S. Hickman, J. Wallbank, D. G. Teer, Surf. Coat. Technol. 200 (2005) 1885. 
    3. A. Anders, S. Anders, I. G. Brown, Plasma Sources Sci. Technol. 4 (1995) 1. 
    4. D. Yonekura, R. J. Chittenden, P. A. Dearnley, Wear, 259 (2005) 779. 
    5. D. C. Meeker, Finite Element Method Magnetics, Version 4.0.1 (03Dec2006 Build), http://www.femm. info 
    6. V. I. Gorokhovsky, D. G. Bhat, R. Shivpuri, K. Kulkarni, R. Bhattacharya, Surf. Coat. Technol., 140 (2001) 215. 
    7. D.-G. Kim, I. Svadkovski, S. H. Lee, J.-W. Choi, J.-K. Kim, Current Appl. Phys. 9 (2009) 179. 
    8. A. M. Korsunsky, A. R. Torosyan, K. M. Kim, Thin Solid Fims, 516 (2008) 5690. 
    9. K. Wasa, M. Kitabatake, H. Adachi, Thin Film Materials Technology, Elsevier Science & Technology Books (2004). 
    10. http://eaps4.iap.tuwien.ac.at/www/surface/script/sputteryield.html 
    11. J.-K. Kim, E.-S. Lee, D.-H. Kim, D.-G. Kim, Thin Solid Films, 447 (2004) 95. 
    12. K. Fuchs, P. Rdhammer, E. Bertel, F. P. Netzer, E. Gornik, Thin Solid Films 151 (1987) 383. 

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