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유리 기판을 이용한 비정질 실라콘 박막의 결정화
Laser Induced Crystallizatioo of Amorphous Si Films on Glass Substrates

김필규    (광주과학기술원 기전공학과   ); 문승재    (한양대학교 기계공학과   ); 정성호    (광주과학기술원 기전공학과  );
  • 초록

    Crystallization of 100 nm thick amorphous silicon (a-Si) films on glass substrates was carried out by using a double laser irradiation method. Depending on a-Si deposition method or glass types, the quality of crystallized silicon film varies significantly. For a-Si films deposited with high concentration of impurities, large grains or high crystallinity can not be achieved. Crystallization with different a-Si deposition methods confirmed that for the polycrystallization of a-Si films on glass substrates, controlling the impurity density during substrate preparation is critical.


  • 주제어

    Laser induced crystallization .   Glass substrate .   Diffusion .   Impurity effects.  

 저자의 다른 논문

  • 김필규 (2)

    1. 2004 "He-Cd 레이저와 근접장현미경을 이용한 폴리머박막 나노리소그라피 공정의 특성분석" 한국레이저가공학회지 = Journal of Korean Society of Laser Processing 7 (3): 37~46    
    2. 2009 "레이저피닝을 이용한 스테인리스강의 표면 경도 강화" 한국레이저가공학회지 = Journal of Korean Society of Laser Processing 12 (3): 18~22    
  • 문승재 (66)

  • 정성호 (28)

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