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Europhysics letters : EPL v.21 no.9, 1993년, pp.927 - 932  

Low-Temperature Magnetization Studies of NbxSi1−x Films

Allen, L. C. ; Paalanen, M. A. ; Bhatt, R. N. ;
  • 초록  

    We have measured the magnetization of thick Nb x Si 1− x films as a function of temperature ( T ) and magnetic field ( H ) near the metal-insulator (MI) transition. In the insulating phase the susceptibility χ ∝  T −α with α ≈ 0.8 and both the T - and the H -dependence of χ are well described by a hierarchical spin-pairing model. In the metallic phase χ shows a similar power-law behavior with α ≈ 0.55, indicative of non-Fermi liquid behavior. We compare these results with similar measurements in doped semiconductors and with existing theories of the disordered insulating and metallic phases. The data suggest a decoupling of transport and magnetic behavior at the MI transition.


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