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Vapour pressure and enthalpy of sublimation of a series of organometallic complexes: Cu(DPM)2, Y(DPM)3, Ba(DPM)2, and some derivatives

Tobaly, P. ; Lanchec, G. ;
  • 초록  

    The results of vapour-pressure measurements for several organometallic complexes are presented and compared with values found in the literature. The tested compounds: (Cu(DPM) 2 , Y(DPM) 3 , Ba(DPM) 2 , where DPM denotes 2,2,6,6-tetramethylheptan-3,5-dionato, and some derivatives are used as precursors in the generation of superconductive layers by chemical vapour deposition (c.v.d.). The enthalpies of sublimation are also calculated and compared with literature values.


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