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IEEE transactions on plasma science v.45 no.1, 2017년, pp.154 - 161   SCI SCIE
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Naphthalene Decomposition by Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure

Wu, Zuliang ; Wang, Jiaxing ; Han, Jingyi ; Yao, Shuiliang ; Xu, Shaojun ; Martin, Philip ;
  • 초록  

    Naphthalene decomposition in O 2 /N 2 gas mixture with different O 2 concentrations has been studied in a dielectric barrier discharge reactor at atmospheric pressure. O 2 played an important role in the decomposition of naphthalene, especially in the selectivities of CO and CO 2 . There was an optimal naphthalene decomposition rate at an O 2 concentration of about 3%. The CO x selectivity increased up to 83.3% gradually with the O 2 concentration increasing from 1% to 20%. Nanoparticles were found in the gas samples, concentrations of which can be reduced greatly through raising the O 2 concentration. The decomposition byproducts of naphthalene were obviously different under different O 2 concentrations. Some nitrogenous compounds reduced but some oxygenous compounds increased with increasing O 2 concentration. The mechanism of naphthalene decomposition was proposed as that naphthalene was first initiated by dehydrogenation and oxidation, and then followed by deep oxidation to CO and CO 2 .


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