본문 바로가기
HOME> 저널/프로시딩 > 저널/프로시딩 검색상세

저널/프로시딩 상세정보

권호별목차 / 소장처보기

H : 소장처정보

T : 목차정보

전기전자재료 = Bulletin of the Korean institute of elect... 3건

  1. [국내논문]   차세대 리소그래피 기술에 대한 전자빔 리소그래피의 응용  

    김성찬 (동국대 전자공학과 ) , 신동훈 (동국대 MIN ) , 이진구 (동국대 MINT)
    전기전자재료 = Bulletin of the Korean institute of electrical and electronic material engineers v.17 no.6 ,pp. 3 - 10 , 2004 , 1226-7937 ,

    초록

    1970년대 초반 이후 반도체 산업의 비약적 발전은 다양한 응용으로 적용되어 여러 분야의 산업들의 성장을 촉진시키고, 번영시켰다. 이런 성장의 중심에서, 반도체 소자의 feature size의 감소는 초소형, 저전력, 고기능 특성을 갖는 소자의 생산을 가능하게 하였으며 이를 기반으로 소자의 재현성, 생산성 증가로 이어져 반도체 산업을 성공시킨 필수적인 요건이 되어 왔다. 실질적으로, 반도체 소자의 feature size는 매 3년마다 약 70%씩 감소해 왔다. 최근에는 반도체 기술 발전의 고속화가 이루어지고 있어 그 속도가 2년 주기로 단축되었다. 이런 현상은 Rayleigh equation으로 도출되었으며, 이것은 유명한 무어의 법칙(Moore's law)의 기본 원리이기도 하다. 이런 반도체 소자의 feature size 감소는 특정 패턴의 선폭에 대한 미세화가 필수적인 요건이며, 미세한 선폭을 형성시키기 위한 노광기술은 feature size 감소의 핵심 기술로 대두되고 있다.(중략)

    원문보기

    원문보기
    무료다운로드 유료다운로드

    회원님의 원문열람 권한에 따라 열람이 불가능 할 수 있으며 권한이 없는 경우 해당 사이트의 정책에 따라 회원가입 및 유료구매가 필요할 수 있습니다.이동하는 사이트에서의 모든 정보이용은 NDSL과 무관합니다.

    NDSL에서는 해당 원문을 복사서비스하고 있습니다. 아래의 원문복사신청 또는 장바구니담기를 통하여 원문복사서비스 이용이 가능합니다.

    이미지

    Fig. 1 이미지
  2. [국내논문]   전자빔 프로젝션 기술을 이용한 나노패터닝 기술 동향  

    김기범 (서울대 재료공학부)
    전기전자재료 = Bulletin of the Korean institute of electrical and electronic material engineers v.17 no.6 ,pp. 11 - 16 , 2004 , 1226-7937 ,

    초록

    지난 40여년간의 반도체 집적 공정의 발전에 있어서 무어(Moore)의 법칙에 의한 소자의 미세화를 달성하기 위하여, 광리소그래피(optical lithography) 기술은 꾸준히 발전하여 왔으며, 소자의 선폭이 나노스케일인 공정에서 역시, 소자 제조의 핵심기술은 리소그래피 기술을 이용한 회로의 패터닝(patterning) 기술에 달려 있다고 해도 과언이 아니다. 그러나 현재 사용되고 있는 광리소그래피는 사용하는 파장의 길이에 따른 분해능(resolution)의 한계로 인하여, 이러한 나노 스케일의 소자를 제작하기 위해서는 새로운 리소그래피 기술이 필요하다는 것이 일반적으로 인정이되고 있다.(중략)

    원문보기

    원문보기
    무료다운로드 유료다운로드

    회원님의 원문열람 권한에 따라 열람이 불가능 할 수 있으며 권한이 없는 경우 해당 사이트의 정책에 따라 회원가입 및 유료구매가 필요할 수 있습니다.이동하는 사이트에서의 모든 정보이용은 NDSL과 무관합니다.

    NDSL에서는 해당 원문을 복사서비스하고 있습니다. 아래의 원문복사신청 또는 장바구니담기를 통하여 원문복사서비스 이용이 가능합니다.

    이미지

    Fig. 1 이미지
  3. [국내논문]   나노선 연구에 있어서의 전자빔 식각기술의 응용  

    김강현 (고려대 전기공학과 ) , 김규태 (고려대 전기공학과)
    전기전자재료 = Bulletin of the Korean institute of electrical and electronic material engineers v.17 no.6 ,pp. 17 - 21 , 2004 , 1226-7937 ,

    초록

    1948년 J. Bardeen 등에 의해 발명된 게르마늄 트랜지스터 이래로 반도체 공업은 숨 가쁘게 발전하여 현재는 $0.1\mu\textrm{m}$ 수준의 크기를 지나 $0.01\mu\textrm{m}$ 수준의 트랜지스터까지도 시연되고 있다[1,2]. 집적회로의 발전에는 대면적의 식각기술의 뒷받침과 끝임 없는 소재의 개발이 그 밑바탕이 되고 있어 앞으로의 발전에 있어서도 패턴닝 기술과 소재 기술은 다음 세대에도 반도체 산업발전의 원동력이 될 것임을 짐작해 볼 수 있다. (중략)

    원문보기

    원문보기
    무료다운로드 유료다운로드

    회원님의 원문열람 권한에 따라 열람이 불가능 할 수 있으며 권한이 없는 경우 해당 사이트의 정책에 따라 회원가입 및 유료구매가 필요할 수 있습니다.이동하는 사이트에서의 모든 정보이용은 NDSL과 무관합니다.

    NDSL에서는 해당 원문을 복사서비스하고 있습니다. 아래의 원문복사신청 또는 장바구니담기를 통하여 원문복사서비스 이용이 가능합니다.

    이미지

    Fig. 1 이미지

논문관련 이미지