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보고서 상세정보

유기 박막의 나노패터닝 공정기술
Nanopatterning technology for nano-optical devices

  • 사업명

    21C 프론티어연구개발사업

  • 과제명

    유기박막의 나노패터닝 공정기술

  • 주관연구기관

    LG전자기술원

  • 연구책임자

    이기동

  • 참여연구자

    김상훈   박주도   윤형길   이종무   윤필원  

  • 보고서유형

    1단계보고서

  • 발행국가

    대한민국

  • 언어

    한국어

  • 발행년월

    2008-05

  • 과제시작년도

    2002

  • 주관부처

    과학기술부

  • 사업 관리 기관

    한국과학재단
    Korea Science and Engineering Foundtion

  • 등록번호

    TRKO201000012171

  • 과제고유번호

    1350022948

  • 키워드

    나노 임프린트 리쏘그라피.레이저 간섭 리쏘그라피.광 결정 발광 다이오우드.격자 컬러 필터.나노 전사 인쇄.Nanoimprint Lithography.Laser Interference Lithography.Photonic Crystal LED.Grating Color Filter.Nano-transfer Printing.

  • DB 구축일자

    2013-04-18

  • 초록 


    The purpose of this project is to develop a nanoimprint lithography (NIL) process with a resolution of 50 nm and to realize nano-...

    The purpose of this project is to develop a nanoimprint lithography (NIL) process with a resolution of 50 nm and to realize nano-optical devices such as photonic crystal LED for enhanced light extraction and grating-based color filtering devices by using the developed NIL technique. NIL is now at the stage of initial commercialization in the various fields, and the competition for its development and commercialization is being accelerated worldwide. We are able to secure the competitive NIL technology through the development of NIL for nano-optical devices of which commercialization is expected in the near future.
    The development of
    - 50 nm-level NIL process
    - NIL process for photonic crystal LED with enhanced light extraction.
    - design technology of photonic crystal LED based on the photonic band diagram.
    - design and fabrication technology of grating-based color filters.
    - 50nm-level nano-transfer printing technology


    50 nm 급 Nanoimprint Lithography 기술 개발.
    50 nm 급 2차원 격자 Stamp 제작을 위한 Laser Interference Lithography 기술 개발.
    LED의 광 추출 효율 증대를...

    50 nm 급 Nanoimprint Lithography 기술 개발.
    50 nm 급 2차원 격자 Stamp 제작을 위한 Laser Interference Lithography 기술 개발.
    LED의 광 추출 효율 증대를 위한 Photonic Crystal 제작용 Nanoimprint Lithography기술 개발.
    Photonic Band Diagram에 의한 Photonic Crystal LED 설계 기술 개발
    Photonic Crystal에 의한 LED 광 추출 효율 88% 향상 및 Photonic Band Gap 효과 규명.
    Selective Photonic Crystal Patterning 기술을 통한 LED의 전기 특성 열화 개선.
    2차원 금속 격자 기반 Color Filter 설계 및 제작 기술 개발
    1차원 실리콘 격자 기반 Color Filter 설계 및 제작 기술 개발
    Ink Pad Method에 의한 micron 급 Metal Transfer Printing 기술 개발
    Water-mediated Transfer에 의한 50 nm 급 Metal Trasfer Printing 기술 개발


  • 목차(Contents) 

    1. 제출문 ...1
    2. 보고서 초록 ...2
    3. 요약문 ...3
    4. SUMMARY ...5
    5. CONTENTS...7
    6. 목차 ...8
    7. 제1장 연구개발과제의 개요 ...9
    8. 1절 연구 개발의 목적 ...9
    9. 2절 필요성 및 범위 ...10
    10. 제2장 국내...
    1. 제출문 ...1
    2. 보고서 초록 ...2
    3. 요약문 ...3
    4. SUMMARY ...5
    5. CONTENTS...7
    6. 목차 ...8
    7. 제1장 연구개발과제의 개요 ...9
    8. 1절 연구 개발의 목적 ...9
    9. 2절 필요성 및 범위 ...10
    10. 제2장 국내외 기술개발 현황 ...12
    11. 1절 국내?외 관련분야에 대한 기술개발현황 ...12
    12. 2절 국내?외 기술개발현황에서 차지하는 위치 ...13
    13. 제3장 연구 개발 수행 내용 및 결과 ...14
    14. 1절 나노 임프린트 리쏘그라피 공정 개발 ...14
    15. 2절 나노 임프린트 리쏘그라피를 이용한 광 결정 발광 다이오드 제작 ...20
    16. 3절 격자 기반 컬러 필터 설계 기술 및 제작 기술 개발 ...27
    17. 4절 나노 전사 프린팅에 의한 금속 박막 패터닝 기술 ...35
    18. 제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ...40
    19. 1절 2단계 목표 달성도 ...40
    20. 2절 연도별 연구목표 및 목표 달성도 ...41
    21. 3절 관련 분야 기술 발전에의 기여도 ...43
    22. 제5장 연구개발결과의 활용계획 ...45
    23. 1절 추가 연구의 필요성 ...45
    24. 2절 타 연구에의 응용 ...45
    25. 3절 기업화 추진 방안 ...46
    26. 제6장 참고문헌 ...47
  • 참고문헌

    1. 전체(0)
    2. 논문(0)
    3. 특허(0)
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