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보고서 상세정보

입체적인 나노구조 가공법에 의한 차세대 적층형 전자소자의 개발
Development of next generation electronic devices on layered materials by 3-D nano-scale patterning methods

  • 사업명

    일반연구자지원

  • 과제명

    입체적인 나노구조 가공법에 의한 차세대 적층형 전자소자의 개발

  • 주관연구기관

    제주대학교
    Cheju National University

  • 연구책임자

    김상재

  • 보고서유형

    최종보고서

  • 발행국가

    대한민국

  • 언어

    한국어

  • 발행년월

    2010-02

  • 과제시작년도

    2009

  • 주관부처

    교육과학기술부

  • 사업 관리 기관

    한국연구재단

  • 등록번호

    TRKO201000013977

  • 과제고유번호

    1345103440

  • 키워드

    3 차원 가공.집속이온빔가공.고유조셉슨접합 (효과).나노주기 이방성 적층재료.차세대 전자소자.단전자 턴넬소자.3-dimensional patterning method.focused-ion-beam etching.intrinsic Josephson effect(junctions).nano-periodic anisotropic materials.next generation devices.single electron tunneling devices.

  • DB 구축일자

    2013-04-18

  • 초록 


    The purpose of this project was the development of next generation devices including single electron tunneling devices using stac...

    The purpose of this project was the development of next generation devices including single electron tunneling devices using stacking nano-periodic layered structures in high-Tc and low-Tc superconducting single crystal. We have investigated the physical mechanisim of tunneling phenomenon in micro- and nano- layered structures fabricated by 3-D(dimensional) focused-ion-beam (FIB) etching methods.


    현재 직면한 차세대 전자소자개발의 가장 큰 장벽 중의 하나는 고집적화에 의한 소자의 열발산 및 히팅현상에 의한 문제이다. 이러한 문제를 해결 할 수 있는 유일한 방안으로써 본 연구에서는 나노주기의 적층구조를 이용한 새로운 개념의 입...

    현재 직면한 차세대 전자소자개발의 가장 큰 장벽 중의 하나는 고집적화에 의한 소자의 열발산 및 히팅현상에 의한 문제이다. 이러한 문제를 해결 할 수 있는 유일한 방안으로써 본 연구에서는 나노주기의 적층구조를 이용한 새로운 개념의 입체적인 차세대 전자소자를 제안한다. 초전도 단전자메모리는 초전도의 고속 스위칭 및 초저소비전력 특성과 단전자턴넬소자의 고집적성을 동시에 가지는 차세대 전자소자 중의 하나이다. 또한 이 소자는, 현재 개발이 활발히 진행되고 있는 초고속 성능의 단일자속양자논리회로와 함께 사용하면 차세대 대형계산기 등의 요구를 만족시키는 고도의 시스템이 가능하게 될 수 있을 것으로 예상된다. 이러한 연구를 수행하기 위하여 본 연구실에서는 국내최초로 고품질의 c축 배향의 Bi-2212, Bi-2223의 나노주기를 가지는 산화물 침상 단결정성장에 성공하였으며, 본 연구에서는 3차원 집속이온빔 가공방법을 이용하여 1) 자연적으로 형성된 나노 주기의 초미소 턴넬층을 가지는 입체적인 구조의 적층구조 턴넬소자를 제작하고 2) 그 특성평가를 통하여 단전자 턴넬소자 혹은 단전자트랜지스터를 제작하고, 특성평가를 통하여, 개발을 위한 기초연구능력을 배양하였다. 본 연구결과는, 실용화를 위한 원천기술을 제공할 수 있을 것으로 사료되며, 이방성의 적층구조가 갖는 층간 턴넬 현상의 메커니즘을 Josephson vortices 와 Pancake vortices상호작용에 의하여 규명하였다.


  • 목차(Contents) 

    1. 일반연구자지원사업(구 우수신진) 최종보고서 ...1
    2. 목차 ...2
    3. I. 연구 계획 요약문 ...3
    4. 1. 국문 요약문 ...3
    5. II. 연구 결과 요약문 ...4
    6. 1. 국문 요약문 ...4
    7. 2. 영문 요약문 ...5
    8. III. 연구 내용 및 결과 ...6...
    1. 일반연구자지원사업(구 우수신진) 최종보고서 ...1
    2. 목차 ...2
    3. I. 연구 계획 요약문 ...3
    4. 1. 국문 요약문 ...3
    5. II. 연구 결과 요약문 ...4
    6. 1. 국문 요약문 ...4
    7. 2. 영문 요약문 ...5
    8. III. 연구 내용 및 결과 ...6
    9. 1. 연구개발과제의 개요 ...6
    10. 2. 국내외 기술개발 현황 ...8
    11. 3. 연구수행 내용 및 결과 ...10
    12. 4. 목표 달성도 및 관련 분야에의 기여도 ...14
    13. 5. 연구결과의 활용계획 ...17
    14. 6. 연구과정에서 수집한 해외과학기술정보 ...17
    15. 7. 주관연구책임자 대표적 연구 실적 ...17
    16. 8. 참고 문헌 ...18
    17. 9. 연구 성과 ...19
    18. 10. 기타사항 ...20
    19. [별첨1] 대표연구성과 ...21
  • 참고문헌

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