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보고서 상세정보

10-nm 이하의 패턴 형성을 위한 가상의 양산용 리소그래피 자기 조립: 위에서 아래 방식과 아래에서 위로의 방식의 합성
Vertual Mass Productional Lithography Self-Assembly for the Below 10-nm Pattern Formation: Integration between top-down method and bottom-up method

  • 사업명

    일반연구자지원

  • 과제명

    10-nm 이하의 패턴 형성을 위한 가상의 양산용 리소그래피 자기 조립: 위에서 아래 방식과 아래에서 위로의 방식의 합성

  • 주관연구기관

    한양대학교 산학협력단

  • 연구책임자

    김상곤

  • 보고서유형

    최종보고서

  • 발행국가

    대한민국

  • 언어

    한국어

  • 발행년월

    2010-04

  • 과제시작년도

    2009

  • 주관부처

    교육과학기술부

  • 사업 관리 기관

    한국연구재단

  • 등록번호

    TRKO201000014558

  • 과제고유번호

    1345105221

  • 키워드

    자기 조립.리소그래피 공정.리소그래피 시뮬레이션.블록 공중합체.10-nm 이하 패턴.반도체.나노 구조.나노 사이언스.self-assembly.lithography process.lithography simulation.block copolymer.below 10-nm pattern.semiconductor.graphoepitaxy.nanostructure.nanoscience.

  • DB 구축일자

    2013-04-18

  • 초록 


    For the possible formation of below 10-nm patterns, we researched the process techniques of mass production by using the combinat...

    For the possible formation of below 10-nm patterns, we researched the process techniques of mass production by using the combination between the previous lithography process and self-assembly. We modeled its mechanism and simulated its model. After comparing of self-assembly technologies, the block copolymer lithography is modeled. The effect of possible forces in the self-assembly fabrication of pattern formation, the parameters of lithography process and self-assembly, thickness, and physical characteristics of resist, and physical, optical, and chemical phenomena are modeled and simulated by using molecular dynamic simulation. The possibility and problems to form the below 10-nm pattern are analyzed and the optimum process parameters of template fabrication are extracted by using Taguchi method.


    10-nm 이하의 패턴 형성을 가능하게 하기 위해서 기존의 리소그래피 공정과 자기 조립 공정 기술을 이용하고 대량생산이 가능한 공정기술을 연구하고 이를 전산 모사하였다. 여러 가지 자기조립 방법들을 연구하고 이중에서 이중블록 공중합...

    10-nm 이하의 패턴 형성을 가능하게 하기 위해서 기존의 리소그래피 공정과 자기 조립 공정 기술을 이용하고 대량생산이 가능한 공정기술을 연구하고 이를 전산 모사하였다. 여러 가지 자기조립 방법들을 연구하고 이중에서 이중블록 공중합체 방법이 가장 효율적인 방법이었고 이 방법을 전산모사를 하였다. 또한 분자 동역학으로 자기-조립 시 발생 가능한 원자들의 힘들이 패턴형성에 주는 효과들, 리소그래피 공정변수, 자기-조립 공정변수, 그리고 감광제의 두께와 물리적 특성 등을 또한 이들 공정 과정에서 일어나는 물리적, 광학적, 화학적 현상들을 모델링하고 이를 전산 모사하였다. 이 전산모사를 이용하여 개발한 공정 기술의 10-nm 이하의 패턴 형성의 가능성과 문제점 등을 알아보고 또한 최적의 공정변수를 구하였다.


  • 목차(Contents) 

    1. 일반연구자지원사업 최종보고서(초안) ...1
    2. 목차 ...3
    3. Ⅰ. 연구 계획 요약문 ...4
    4. 1. 국문 요약문 ...4
    5. Ⅱ. 연구 결과 요약문 ...5
    6. 1. 국문 요약문 ...5
    7. 2. SUMMARY ...6
    8. Ⅲ. 연구 내용 및 결과 ...7...
    1. 일반연구자지원사업 최종보고서(초안) ...1
    2. 목차 ...3
    3. Ⅰ. 연구 계획 요약문 ...4
    4. 1. 국문 요약문 ...4
    5. Ⅱ. 연구 결과 요약문 ...5
    6. 1. 국문 요약문 ...5
    7. 2. SUMMARY ...6
    8. Ⅲ. 연구 내용 및 결과 ...7
    9. 1. 연구 개발 과제의 개요 ...7
    10. 2. 국내외 기술 개발 현황 ...11
    11. 3. 연구 수행 내용 및 결과 ...14
    12. 4. 목표 달성도 및 관련 분야에의 기여도 ...29
    13. 5. 연구 결과의 활용 계획 ...30
    14. 6. 연구 과정에서 수집한 해외 과학기술 정보 ...31
    15. 7. 주관연구책임자 대표적 연구 실적 ...37
    16. 8. 참고 문헌 ...37
    17. 9. 연구 성과 ...39
    18. 10. 기타사항 ...41
    19. 별첨1 ...42
  • 참고문헌

    1. 전체(0)
    2. 논문(0)
    3. 특허(0)
    4. 보고서(0)

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