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보고서 상세정보

이동용 자외선-충격파 듀얼 시스템을 이용한 반도체 장비 부품의 건식 세정 기술 개발

  • 사업명

    청정생산기술개발

  • 과제명

    이동용 자외선-충격파 듀얼 시스템을 이용한 반도체 장비 부품의 건식세정기술 개발

  • 주관연구기관

    (주)아이엠티

  • 연구책임자

    이종명

  • 참여연구자

    윤인근   이병렬   조성호   조형기   조문기   이상승  

  • 보고서유형

    최종보고서

  • 발행국가

    대한민국

  • 언어

    한국어

  • 발행년월

    2004-09

  • 과제시작년도

    2003

  • 주관부처

    산업자원부

  • 사업 관리 기관

    한국산업기술평가원

  • 등록번호

    TRKO201000015329

  • 과제고유번호

    1410058458

  • DB 구축일자

    2013-04-18

  • 초록 


    ...


    (1) 반도제 장비 부품 세정의 중요성
    ▶ 장비 부품의 Life-time을 증가시킴으로서 장비 및 생산 유지비 절감
    ▶ 표면 오염물질 제거에 의한 생성 입자(particles)의 감소로 생산 수율(yield) 향상
    ...

    (1) 반도제 장비 부품 세정의 중요성
    ▶ 장비 부품의 Life-time을 증가시킴으로서 장비 및 생산 유지비 절감
    ▶ 표면 오염물질 제거에 의한 생성 입자(particles)의 감소로 생산 수율(yield) 향상
    ▶ 고가의 소모성 부품의 구입 비용 감소에 의한 생산 원가 절감
    ▶ 공정 중 발생하는 미세 Particle 제어에 의한 반도체 생산 공정의 안정화
    (2) 반도체 장비 부품 세정 시 고려 사항
    ▶ 모재의 특성 : 재질, 표면상태 및 취약성
    ▶ 오염물질의 특성 : 물질의 종류 및 성분 결합 상태, 누적 상태, 유독성
    ▶ 세정 처리 후 관리 사양 : 물질의 잔존 여부, 표면의 입자 수, 표면 거칠기, 부품의 치수 변화, 표면 색깔


  • 목차(Contents) 

    1. 표지 ...1
    2. 제출문 ...2
    3. 목차 ...3
    4. 제1장 사업개요 ...4
    5. 1-1. 사업 추진 배경 ...4
    6. 1-2. 사업 목표 및 평가 방법 ...13
    7. 1-3. 연도별 사업 추진 내용 및 계획 ...16
    8. 제2장 기술 개발 (1차년도) ...17...
    1. 표지 ...1
    2. 제출문 ...2
    3. 목차 ...3
    4. 제1장 사업개요 ...4
    5. 1-1. 사업 추진 배경 ...4
    6. 1-2. 사업 목표 및 평가 방법 ...13
    7. 1-3. 연도별 사업 추진 내용 및 계획 ...16
    8. 제2장 기술 개발 (1차년도) ...17
    9. 2-1. 자외선-충격파 실험 장치 제작 ...17
    10. 2-2. 자외선 세정 실험 및 결과 ...22
    11. 2-3. 충격파 세정 실험 및 결과 ...42
    12. 2-4. 세정 미케니즘 규명 ...59
    13. 2-5. 자외선-충격파 듀얼 시스템 설계 ...79
    14. 제3장 시스템 개발 (2차년도) ...83
    15. 3-1. 반도체 웨이퍼 세정용 레이저 클리닝 시스템 ...83
    16. 3-2. 반도체 부품 세정용 레이저 클리닝 시스템 ...101
    17. 제4장 결 론 ...115
  • 참고문헌

    1. 전체(0)
    2. 논문(0)
    3. 특허(0)
    4. 보고서(0)

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