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보고서 상세정보

지능형 식각종말점 탐지 시스템 개발
Development of intelligent detecting system of Etch Endpoint

  • 사업명

    중소기업기술개발지원

  • 과제명

    지능형식각종말점탐지시스템개발

  • 주관연구기관

    (주)쎄미시스코

  • 연구책임자

    이순종

  • 참여연구자

    우봉주   이동석   문주영   박병찬   김병환   김유석   권민지  

  • 보고서유형

    최종보고서

  • 발행국가

    대한민국

  • 언어

    한국어

  • 발행년월

    2007-09

  • 과제시작년도

    2006

  • 주관부처

    정보통신부

  • 사업 관리 기관

    정보통신연구진흥원
    Institute for Information Technology Advancement

  • 등록번호

    TRKO201000018122

  • 과제고유번호

    1440002055

  • DB 구축일자

    2013-04-18

  • 초록 


    As Etching Process of the Semiconductor and the LCD industry, it is necessary to use EPD(End Point Detection) system. Generally, ...

    As Etching Process of the Semiconductor and the LCD industry, it is necessary to use EPD(End Point Detection) system. Generally, most of EPD systems are based on OES(Optical Emission Spectroscopy). However, it is not easy to detect the signal of metal contact Process which the open area is less than 1% case, n+process which has very low open area. Therefore most of metal contact process does not use EPD system for their etching process. That means, most of metal contact process is having Time-based etching process. However, Time-based Etching Process has a lot of problem. One of them is "under-etch" and "excessive over-etch". So, we developed advanced EPD system. Development of intelligent detecting system of Etch Endpoint is focused to solve these kinds of Time-Based etching problem.
    In this research, the supervisor is SemiSysco and SEJONG university is joined in this research as a assistant. The optical system of EPD System, operation driver, software, EPD communication protocol with main Etcher and EPD Controller were being developed and researched by SemiSysco. And Model of Auto-Correlated nerve network of Time-series(A-NTS), the model of Auto/Cross-correlated nerve network of Time-series(AC-NTS) and the model of Plasma diagnosis by using nerve network of Time-series were developed by SEJONG university. And the research result of each parties were combined and developed by SemiSysco. As a result of this research, to detect EPD signal of metal contact process and n+ etching process of LCD industry can be possible and it is also possible to detect and find any kinds of chamber abnormal things. So the research subject of "Development of intelligent detecting system of Etch Endpoint" was done by SemiSysco and SEJONG university with success.


    가. 주관 기관
    광학계 개발 (Spectral Resolution 개선, ADC resolution개선, Signal: Noise비개선)
    (1) 세부 개발 내용
    - 구동 드라이버 개발 (Time Resolution을...

    가. 주관 기관
    광학계 개발 (Spectral Resolution 개선, ADC resolution개선, Signal: Noise비개선)
    (1) 세부 개발 내용
    - 구동 드라이버 개발 (Time Resolution을 증가해도 안정적으로 동작하는것 포함)
    - S/W 개발 (신경망을 이용한 알고리즘을 EPD recipe에 접목하기 위한)
    - 1차 시제품 발주/설계/제작/검증
    - 1차 성능 평가 및 기초 공정 평가
    - 1차 시제품 종합 평가 시 양산형 2차 시제품 제작을 위한 문제점, 개선점 도출 및 2차 시제품 설계/제작에 반영
    - 2차 시제품 설계/발주/제작/검증
    - 양산형 2차 시제품 설계/제작 및 양산 Demo 평가 실시공정 조건 Fine Tuning을 통한 VIA Process용 EPD Recipe확립
    - EPD차원의 차세대 Dielectric 식각 기초 공정 평가 및 분석
    - Plasma Source 성능 평가 및 비교에 의한 EPD의 성능 극대화
    - 구동 프로그램, UI Debug
    - 2차 시제품 성능 평가 및 기초 공정 평가
    나. 위탁기관
    시계열 신경망 기법을 이용한 식각종말점 예측과 플라즈마 진단
    (1)세부 개발 내용
    - Auto-Correlated 시계열 신경망 (A-NTS) 모델 개발
    - Auto/Cross-Correlated 시계열 신경망 (AC-NTS) 모델 개발
    - 시계열 신경망을 이용한 플라즈마 진단 모델 개발


  • 목차(Contents) 

    1. 표지 ...1
    2. 제출문 ...3
    3. 요약문 ...4
    4. SUMMARY ...9
    5. CONTENTS ...10
    6. 목차 ...11
    7. 제1장 서론 ...13
    8. 제1절 기술개발의 필요성(중요성) ...13
    9. 1.기술적 측면 ...13
    10. 2. 사업적 ...
    1. 표지 ...1
    2. 제출문 ...3
    3. 요약문 ...4
    4. SUMMARY ...9
    5. CONTENTS ...10
    6. 목차 ...11
    7. 제1장 서론 ...13
    8. 제1절 기술개발의 필요성(중요성) ...13
    9. 1.기술적 측면 ...13
    10. 2. 사업적 측면 ...14
    11. 3. 기업적 측면 ...15
    12. 제2절 국내외 관련기술의 현황 및 전망 ...16
    13. 1. 세계적 기술현황 및 전망 ...16
    14. 2. 국내 기술현황 및 전망 ...18
    15. 3. 제안 기술과 관련된 국.내외 동일 또는 유사 기술의 개발 또는 상용화 내용 ...18
    16. 제2장 본 론 ...20
    17. 제1절 기술개발 목표 ...20
    18. 1.주관 기관 ...20
    19. 2. 위탁기관 ...20
    20. 제2절 세부개발내용 및 결과 ...21
    21. 1. 주관기업 ...21
    22. 가. 광학계 개발 및 UI 개발 ...21
    23. 나. 구동드라이버 개발 ...21
    24. 다. 메인장비와 통신 프로토콜 개발 ...22
    25. 2. 위탁기관 ...39
    26. 가. A-NTS 모델-응용 EPD 예측 ...39
    27. 나. AC-NTS 모델-응용 EPD 예측 ...45
    28. 다. 시계열 모델-응용 EPD 진단 ...52
    29. 제3절 기존기술과의 차이점 ...54
    30. 1. 과제목표의 평가항목 및 방법 ...55
    31. 가. 평가항목 ...55
    32. 나. 평가방법 ...56
    33. 제3장 결 론 ...60
    34. 제1절 기술개발결과 ...60
    35. 제2절 기술개발의 파급효과 ...61
    36. 제3절 상용화 계획 ...63
    37. 1. 사업화 계획 ...63
    38. 가. 최종 과제결과물의 시장분석 ...63
    39. 나. 사업화 계획 및 매출목표 ...65
    40. 다. 최종 과제결과물관련 유사품목 생산.판매실적 ...66
    41. 부 록 ...67
  • 참고문헌

    1. 전체(0)
    2. 논문(0)
    3. 특허(0)
    4. 보고서(0)

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