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보고서 상세정보

셀프바이어스 강화 플라즈마 활성화 증착 기술 개발
Self bias enhanced plasma activation deposition technology development

  • 사업명

    한국생산기술연구원운영경비

  • 과제명

    셀프바이어스 강화 플라즈마 활성화 증착 기술 개발(1/1)

  • 주관연구기관

    한국생산기술연구원
    Korea Institute of Industrial Technology

  • 보고서유형

    연차보고서

  • 발행국가

    대한민국

  • 언어

    한국어

  • 발행년월

    2015-12

  • 과제시작년도

    2015

  • 주관부처

    미래창조과학부
    Ministry of Science, ICT and Future Planning

  • 등록번호

    TRKO201600002043

  • 과제고유번호

    1711034399

  • 키워드

    자체 바이어스.플라즈마 활성화 증착.초발수성.테플론.증발기.self bias.plasma activation deposition.super hydrophobic.teflon.evaporator.

  • DB 구축일자

    2016-05-21

  • 초록 


    ...


    핵심기술
    플라즈마 활성화 증착 기술

    개발의 목표
    ○ 의료용 기기, 전자소자, 기능성 부품, 열방출소재, 냉각부품 등에 적용되는 표면에너지 제어용 코팅을 형성하는 기술
    ○ 기판 바이어스 효과의 변화에 따른...

    핵심기술
    플라즈마 활성화 증착 기술

    개발의 목표
    ○ 의료용 기기, 전자소자, 기능성 부품, 열방출소재, 냉각부품 등에 적용되는 표면에너지 제어용 코팅을 형성하는 기술
    ○ 기판 바이어스 효과의 변화에 따른 증착 물질의 특성 변화를 제어하기 위하여 플라즈마 활성화 증착 기술을 개발하고 자 함.
    ○ 형상적으로 코팅이 어려운 부품에 적용하거나 고기능성 제품화 코팅 기술에 접목

    개발내용 및 결과
    1) Self bias 강화 활성화 plasma 소오스 제어 기술 개발
    - 고경도 테플론막 Hv 1700 이상 (하중 2g on Si wafer)
    2) 증착 조건별 코팅 특성 활용 부품 개발
    - 고접촉각 테플론막 105° 이상 (DSA-100측정, Si wafer 상)
    3) 의료용 부품, 전자소자, 응축기 부품 적용되는 표면 에너지 제어용 플라즈마 활성 증착 기술 개발
    - 컴프레서 증발기 저착상 코팅(제상 코팅) 연구
    4) 정량적 성과 : 국내특허등록 1건, 기술료 5,550천원
    5) 단순 종래 증착 기술의 한계를 벗어나 신소재를 창출하고 공정조건의 다변화를 통해 특수한 적용의 폭을 넓힐 수 있을 것으로 기대됨


  • 목차(Contents) 

    1. 표지 ... 1
    2. 제 출 문 ... 2
    3. 기관주요사업 요약서(초록) ... 3
    4. 목차 ... 6
    5. 제 1 장 서론 ... 7
    6. 제 1 절 개발기술의 중요성 및 필요성 ... 7
    7. 제 2 절 국내ㆍ외 관련 기술의 현황 ... 9
    8. 제 3 절 기술개발 시 예상되는 기술...
    1. 표지 ... 1
    2. 제 출 문 ... 2
    3. 기관주요사업 요약서(초록) ... 3
    4. 목차 ... 6
    5. 제 1 장 서론 ... 7
    6. 제 1 절 개발기술의 중요성 및 필요성 ... 7
    7. 제 2 절 국내ㆍ외 관련 기술의 현황 ... 9
    8. 제 3 절 기술개발 시 예상되는 기술적ㆍ경제적 파급 효과 ... 14
    9. 제 2 장 기술개발 내용 및 방법 ... 15
    10. 제 1 절 당해년도 목표 및 평가 방법 ... 15
    11. 제 2 절 당해연도 개발 내용 및 개발 범위 ... 16
    12. 제 3 장 결과 및 향후 계획 ... 17
    13. 제 1 절 연구개발 추진 체계 ... 17
    14. 1. 연구개발 추진 전략 ... 17
    15. 2. 연구개발 추진 체계 ... 18
    16. 3. 연구수행 편성도 ... 19
    17. 제 2 절 당해년도 연구개발 결과 ... 20
    18. 1. 당해년도 연구개발 추진 일정 및 달성도 ... 20
    19. 2. 당해연도 연구개발 추진 실적 - 기술개발 결과의 유형 및 무형 성과 전체를 기술 ... 21
    20. 제 3 절 기대효과 및 사업화 계획 ... 32
    21. 제 4 장 참고문헌 ... 36
    22. 부 록 ... 38
    23. 끝페이지 ... 58
  • 참고문헌

    1. 전체(0)
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