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보고서 상세정보

감광성 은나노와이어/탄소나노튜브 하이브리드 투명전극 및 무에칭 패턴 기술 개발
Development of the photosensitive Ag nanowire/ CNT hybrid transparent conducting films and non-etching process

  • 과제명

    감광성 은나노와이어/탄소나노튜브 하이브리드 투명전극 및 무에칭 패턴 기술 개발

  • 주관연구기관

    ㈜상보

  • 연구책임자

    길승범

  • 참여연구자

    서미정   정병무   우란   박수빈   이미영   진주은   그외 다수   이소룡   이건희  

  • 보고서유형

    최종보고서

  • 발행국가

    대한민국

  • 언어

    한국어

  • 발행년월

    2015-11

  • 과제시작년도

    2014

  • 주관부처

    미래창조과학부
    KA

  • 사업 관리 기관

    (재)나노융합2020사업단

  • 등록번호

    TRKO201600002357

  • 과제고유번호

    9991005931

  • 키워드

    은나노와이어,탄소나노튜브,투명전극,패턴,감광성silver nanowire,carbon nanotube,transparent electrode,pattern,photo-reactive

  • DB 구축일자

    2016-06-04

  • 초록 


    Ⅳ. Results of research and development (The main results for industrialization)

    ○ Properties of the photosensitive Ag nano...

    Ⅳ. Results of research and development (The main results for industrialization)

    ○ Properties of the photosensitive Ag nanowire/CNT hybrid transparent conducting film and development of non-etching process.
    -Dispersion stability of coating solution: 2 weeks.
    -Transparent conducting film properties: transmittance 90%, sheet resistance 76Ω/sq, haze1.14%.
    -Environmental durability of the transparent conducting films:
    ㆍHigh temperature high humidity stability (85℃, relative humidity 85%, 240hr): resistance change 3%.
    ㆍBending stability (radius of curvature: 10mm): resistance change 1.8%.
    -Fine patterning of non-etching process for transparent conducting films: 100㎛.
    -Development of optimized coating solution for different substrate: coating solution and methods for PET film, PC and tempered glass.

    ○ Large coating of photosensitive Ag nanowire/CNT hybrid and characterization of films.
    -Development of large scale coating solution: ≥10L/day.
    -Large scale coating width: slot die 500mm.
    -Properties of large scale transparent conducting films: transmittance 90.2%, sheet resistance 62.8Ω/sq, haze 1.02%.
    - Sheet resistance uniformity: 90.9%.
    - Channel resistance uniformity: 90.9%.
    - Manufacture technology of TSP.
    - Evaluation of mass production possibility.
    ㆍDevelopment of TSP driving module.
    ㆍActuation force test: Resistance change ratio 2.4%.

    ○ Development of large scale coating process of Ag nanowire/CNT hybrid and confirmation of film (etching type) properties.
    -Development of large scale coating solution: ≥30L/day.
    -Large scale Coating width: 1000mm.
    -Properties of large scale transparent conducting films: transmittance 90.8%, sheet resistance 53.8Ω/sq, haze 1.07%.
    -Sheet resistance uniformity of large scale coating film: 95.3%.
    -Evaluation of mass production possibility.
    ㆍDevelopment of TSP driving module.
    ㆍActuation force test: Resistance change ratio 2.4%.
    -TSP module fabrication with AgNW/CNT hybrid transparent conducting film.
    ㆍFabrication of 15.6 inch POS module and driving confirmation.

    ○ Results of commercialization.

    -Patterning of photosensitive Ag nanowire/CNT hybrid film for F2 TSP and selling, S company. (sheet type)
    -Successful demonstration and mass selling of Ag nanowire/CNT hybrid film, F company.
    ㆍHybrid film for TSP module. (10.1’ payment terminals)
    ㆍOn-going model house testing. (3.5’and 4.3’modules)
    -Successful demonstration and sample selling of Agn anowire/CNT hybrid film for GFF type TSP module (15 inch POS), and large scale manufacture assessment is undergoing in I company.
    -Successful demonstration and reliability pass for 3.5, 5.5 mobile phone, Currently under consideration for mass production of mobile phone, V company. (China)
    -Successful demonstration and sample selling of Ag nanowire/CNT hybrid film for application of transparent heating sheet of helmet, H company. (sheet type)
    -Sample selling of Ag nanowire/CNT hybrid film.
    -Salesaccount: ₩9,135,425won(until Aug 31, 2015, VAT excluded), Because the customer takes a long time to evaluate our product, the revenue is not large. But we expect that the revenue will rapidly increase within near future.
    (₩27,630,339won until Sep ₩ 30, 2015, VAT excluded)


    본 과제에서는 AgNW/CNT 하이브리드 투명전극 및 무에칭 패턴 형성 기술을 이용하여 기존 투명 전극 대비 우수한 특성의 투명전극 제조 기술을 확보하였고, 포토리소그래피 및 식각 공정 없이 자외선 노광 및 세척 공정을 통해 패턴을...

    본 과제에서는 AgNW/CNT 하이브리드 투명전극 및 무에칭 패턴 형성 기술을 이용하여 기존 투명 전극 대비 우수한 특성의 투명전극 제조 기술을 확보하였고, 포토리소그래피 및 식각 공정 없이 자외선 노광 및 세척 공정을 통해 패턴을 형성할 수 있는 무에칭 패터닝 기술로서 기존 특허 기술을 회피하면서 투명전극 제조 공정에 있어 가격 경쟁력을 확보하였다. 본 과제의 주요 기술은 아래와 같음.

    ○ 감광성 AgNW/CNT 하이브리드 투명전극을 적용한 무에칭 패터닝 기술 개발
    -감광성 투명전극 코팅액 조성물 및 분산안정성 확보: 보관기관 2주 이상
    -대용량 코팅액 제조 기술 확보 : 10L/day 이상
    -기판/코팅방식에 따른 투명전극 특성: 투과도 90% 이상, 헤이즈 1.2% 이하, 면저항 80Ω/sq 이하
    ○ 감광 및 세정 공정을 통한 무에칭 투명전극 패턴 형성 기술 개발
    -자외선 감광성 투명전극의 선택적 노광 반응을 통한 투명전극 패턴 형성 기술 확보: 패턴간격 100㎛
    -자외선 노광 및 세정 공정 최적화
    ○ AgNW/CNT 하이브리드 투명전극 제조 기술 개발 (에칭형)
    -대용량 코팅액 제조 기술 확보 : 10L/day 이상
    -대면적 코팅 공정 기술 확보: 폭 500mm 이상
    -투명전극 특성 확보: 투과도 90% 이상, 헤이즈 1.2%이하, 면저항 60Ω/sq 이하
    ○ 감광성 AgNW/CNT 하이브리드 투명전극 필름 환경안정성 확보
    -투명전극 고온고습 안정성, 휨안정성 확보: 저항 변화율 10% 이하
    ○ AgNW/CNT 하이브리드 투명적극을 적용한 TSP 시제품 제작 및 정상 구동 확보
    -무에칭 패턴, 에칭형 패턴을 통한 TSP 제조 공정 기술 개발
    -무에칭 패턴, 에칭형 패턴을 통한 TSP 시제품 구동 특성 확보

    본 과제에서는 무에칭 패터닝 기술과 고성능의 AgNW/CNT 하이브리드 투명전극 필름을 이용하여 세계 최초로 무에칭 패턴을 통한 터치스크린패널 시제품을 제조하여 그 구동 특성을 확인하였고, 전략적인 킬러 어플리케이션을 발굴하고 터치스크린패널 제조사와 공동 개발을 통해 무에칭 패턴 은나노와이어 투명전극의 상용화를 적극 추진하였으며, 국내외 최고 수준의 AgNW/CNT 하이브리드 투명전극 필름 양산 공정 기술 개발을 통해 대면적 터치패널용 투명전극으로 양산 적용하여 개발 활동을 수행하였음.


  • 목차(Contents) 

    1. 표지 ... 1
    2. 제출문 ... 2
    3. 보고서 요약서 ... 4
    4. 요약문 ... 6
    5. SUMMARY ... 9
    6. CONTENTS ... 13
    7. 목차 ... 14
    8. 제1장 연구개발 과제의 개요 ... 16
    9. 1. 연구개발의 필요성 ... 16
    10. ...
    1. 표지 ... 1
    2. 제출문 ... 2
    3. 보고서 요약서 ... 4
    4. 요약문 ... 6
    5. SUMMARY ... 9
    6. CONTENTS ... 13
    7. 목차 ... 14
    8. 제1장 연구개발 과제의 개요 ... 16
    9. 1. 연구개발의 필요성 ... 16
    10. 2. 연구개발 목표 및 내용 ... 23
    11. 제2장 국내외 기술개발 현황 ... 26
    12. 1. 국내외 관련 분야 기술‧제품의 개발현황 ... 26
    13. 2. 연구개발 결과가 국내외 기술‧제품 개발 현황에서 차지하는 위치 ... 33
    14. 제3장 연구개발 수행 내용 및 결과 ... 36
    15. 1. 최종연구목표(성과목표 및 평가지표) 달성 내용 ... 36
    16. 2. 목표 달성 내용 요약 ... 38
    17. 3. 주요 상용화 개발 내용 및 결과 ... 40
    18. 4. 개발 성과 ... 81
    19. 5. 관련 산업·기술 분야에의 기여도 ... 84
    20. 제4장 연구개발 결과의 활용계획(종료 이후의 사업 계획) ... 86
    21. 1. 시장 현황 및 사업화 전망 ... 86
    22. 2. 과제종료 시점까지의 사업화 실적 및 향후 계획 ... 87
    23. 3. 개발결과(기술, 제품)의 응용·확장성 ... 90
    24. 제5장 연구개발 과정에서 수집한 산업기술정보 ... 92
    25. 제6장 연구 시설ㆍ장비 구입 및 관리 현황 ... 94
    26. 제7장 참고문헌 ... 96
    27. 제8장 최종평가 결과 및 이에 대한 원인 분석 ... 98
    28. 끝페이지 ... 99
  • 참고문헌

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