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연구자 상세정보 본 연구자 정보는 KISTI의 자동식별 알고리즘을 적용한 결과로, 일부 정확하지 않은 정보는 개선중에 있습니다.

최두진

  • 영어명

    Choi, Doo-Jin

  • 소속기관

    연세대학교(Yonsei University)

  • 키워드

    SiC, CVD, Chemical vapor deposition, Silicon carbide, SiC film, gas sensor, Porous silicon, phase shift, MOCVD, SONOS

본 연구자 정보는 KISTI의 자동식별 알고리즘을 적용한 결과로, 일부 정확하지 않은 정보는 개선중에 있습니다.

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